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高精密單面光刻機是一種先進的半導體制造設備，用于在硅片或其他基板上制作微小而精確的圖案。該設備結合了光學、機械和控制系統，以實現高分辨率、高精度的圖案轉移過程。主要組成部分包括曝光系統、對準系統、底片/掩模系統和步進驅動系統。曝光系統是光刻機的核心部件，它通過照射光源將圖案投影到基板上。常見的曝光光源包括紫外線（UV）光源和電子束（EB）光源，其中紫外線光刻機在半導體制造中應用廣泛。對準系統用于確保底片和基板之間的精確對位，以保證圖案的準確傳輸。底片/掩模系統則負責支持和固定...