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NMC 508系列 ICP刻蝕機是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機，具有高精度、高選擇性和高效率等特點。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導體制造、微電子制造、光電子制造等領(lǐng)域，特別是在集成電路、微機電系統(tǒng)（MEMS）、光電子器件等制造過程中發(fā)揮著重要作用。

NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。

HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺.可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。

Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計，具備良好的防酸腐蝕能力。

EPEE系列 等離子化學氣相沉積系統(tǒng) 單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求高效遠程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆粒控制.滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求.

eVictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，加熱基座設(shè)計，具備良好的溫度均勻性，高溫厚鋁工藝連續(xù)作業(yè)無累溫。