高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)

簡要描述：Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。

產(chǎn)品型號：Orion Proxima
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2025-06-05
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詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。

2. 設備用途/原理

Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)，填孔能力以及高沉積速率，溫度場和 ICP 電磁場設計保證了低溫高致密的膜質(zhì)表現(xiàn)，優(yōu)化機臺結(jié)構(gòu)，縮小占地面積，友好的人機交互和安全性設計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。

3. 設備特點

晶圓尺寸 12 英寸，適用材料氧化硅。適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質(zhì)層、鈍化層。適用域新興應用、集成電路。等離子體化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應氣體，促進在基體表面或近表面空間進行化學反應，生成固態(tài)膜的技術(shù)。按產(chǎn)生等離子體的方法，分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。

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