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CMP后清洗機

簡要描述:GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

  • 產(chǎn)品型號:GNP CEANER-412S
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 447

詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述:

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設(shè)計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

適用晶圓尺寸:100mm(4")300mm(12")

配置:噴淋清洗、單邊刷清洗、旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選:分離QDR)

清潔器尺寸:1,100W 1,100D 1,650Hmm

電刷尺寸:070(外徑)032(內(nèi)徑)170()毫米

刷隙調(diào)節(jié):PLC自動控制(可選刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

化學(xué):NH4OH ~ 1%

可用刷型:雙面PVA

電刷轉(zhuǎn)速:最高400rpm

旋轉(zhuǎn)速度:手動加載與自動順序,濕入/干出,最大2,000rpmDIW沖洗/ N2

2. 工藝流程

手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC


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